2013-09-25
org.kosen.entty.User@2850eb16
최인호(pkhcih)
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iTO 박막위에 여러 종류의 고분자 paste를 인쇄후 ..일정시간 지난후 현상기를 통해
인쇄한 paste를 완전 제거 후 iTO위에 다른 산화물 박막을 코팅을 하는 실험을합니다. 그중
제가 연구하는 것은 이 paste를 완전제거 되었는지? 어떤 성분이 ito위에 남아 있어
다른 산화막코탕을 방해하는지. 분석방법? 을 쉽게 알수 있는 분석 장비를 알고 싶습니다.
참고로 남아있는 성분은 고분자이며...사이즈는 100옴크스트롱이하.
좋은 하루되세요.
- 표면분석
- 세정
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각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
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답변 4
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답변
최용호님의 답변
2013-09-26- 0
10 nm 이하 정도의 두께는 AFM으로 분석하실수 있습니다. 고분자 paste를 인쇄하기전에 AFM으로 ITO 박막을 측정하신 뒤에 고분자 paste 제거후 AFM으로 ITO 박막을 측정하여 비교하시면 제거 유무를 확인할 수 있을것 같습니다. AFM의 phase 측정을 하시면 비교가 조금더 효과적일수 있습니다. 문제는 쉽게 분석하는 장비를 찾으시는데 AFM은 조금 번거로울수 있습니다. -
답변
주형국님의 답변
2013-09-26- 0
기본적인 표면분석을 같이 수행하는 것이 좋지 않을까요? 유기물의 농도가 %이상이거나 한다면 XRF로 간단하게 성분을 분석하거나 아니면 XRD 분석을 해 보시는게 좋을 것으로 보입니다. 추가적으로 XPS 분석도 수행하셔서 binding energy변화로 산화코팅막의 금속물질의 전하상태도 같이 분석하면 좋은 자료가 될 것으로 보입니다. -
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손삼익님의 답변
2013-09-27- 0
잔류 고분자 확인 (용이한 순서부터) => 광학, 접촉각 측정, 열분석(TGA-DSC), XPS, Auger를 이용하여 Carbon 확인 -
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강광철님의 답변
2013-09-27- 0
열분석을 먼저하시고 잔류량을 측정하는것이 좋을것으로 판단되네요. XPS가 Auger이니까 결합에너지 측정도 간단히 측정되겠으나 정확한 값은 아닐것이니 다양한 표면 분석방법으로 분석을 해보시길 ... IR로 먼저 남은 작용기를 보시는것도 방법일듯싶네요.