지식나눔

투명전도성 재료인 ITO의 다층박막구조인 Oxide/Metal/Oxide구조의 Index matching이 어떻게 이루어지는 원리인지 궁금합니다.

안녕하세요.
O/M/O구조에서 Index matching이 고 굴절율/저 굴절율/고 굴절율 이런식으로 진행되는건지..
위에 질문이 맞다면 어떤 원리로 굴절율을 제어하는지 궁금합니다!
감사합니다!
  • index matching
  • 다층박막구조
  • 굴절률
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답변 2
  • 답변

    박장식님의 답변

        현재 주로 사용하고 있는 정전용량형 터치패널의 투명전도막은 패턴을 해서 장착하고 있습니다. 
      패턴의 형상이 보이지 않게 하기 위해서는 2가지의 조건이 요구됩니다. 
      첫째는 패턴부와 패턴되지 않은 부분에 대해서 입사광(예를 들면 약 550nm)을 조사했을  때 반사율의 차이가 약 1% 이하이어야 하며
    두번째는 패턴부과 패턴되지 않는 부의 색차가 약 3이하가 요구됩니다. 세계 시장에 ITO 박막을 80%이상 공급하고 있는 일본의 닛도는 상기와 같은 특성의 박막을 제작하는 것으로 예상됩니다.
     
        현재 주로 사용하고 있는 정전용량형 터치패널의 투명전도막은 패턴을 해서 장착하고 있습니다. 
      패턴의 형상이 보이지 않게 하기 위해서는 2가지의 조건이 요구됩니다. 
      첫째는 패턴부와 패턴되지 않은 부분에 대해서 입사광(예를 들면 약 550nm)을 조사했을  때 반사율의 차이가 약 1% 이하이어야 하며
    두번째는 패턴부과 패턴되지 않는 부의 색차가 약 3이하가 요구됩니다. 세계 시장에 ITO 박막을 80%이상 공급하고 있는 일본의 닛도는 상기와 같은 특성의 박막을 제작하는 것으로 예상됩니다.
     

    덧글 달아 주셔서 감사합니다!
    패턴을 보이지않게하기위해 반사율의 차이가 약 1%이하를 만드는데 이 원리가 어떻게 제어가 되는지 궁급합니다. 제가 얕게 알고있는부분은 프레넬 반사를 제어함으로써 빛의산란을 줄이고 투과율을 높이는 부분인것같은데 어떻게 제어하는 부분이 잘모르겠네요 ㅜㅜ

  • 답변

    박장식님의 답변

      현재 정전용량형 터치패널의 TCO로서는 ITO가 주로 사용되며 인덱스 매칭을 위해서 ITO하단부에 저굴절, 고굴절의 박막층의 두께를 조절해서 제작되고 있습니다.
     현재 ITO대체할 수 있는 재료로는 여러가지 있으나 AgNanowire가 가장 가능성이 높다고 평가합니다. 이것이 직적으로 ITO를 대체하며 구조는 종래와 같이 해서 패턴을 형성할 것으로 예상됩니다.
    Oxide/Metal/Oxide 의 구조에 대응하는 인덱스매칭 방법은 더 광학적인 연구가 필요할 것으로  생각합니다.
      현재 정전용량형 터치패널의 TCO로서는 ITO가 주로 사용되며 인덱스 매칭을 위해서 ITO하단부에 저굴절, 고굴절의 박막층의 두께를 조절해서 제작되고 있습니다.
     현재 ITO대체할 수 있는 재료로는 여러가지 있으나 AgNanowire가 가장 가능성이 높다고 평가합니다. 이것이 직적으로 ITO를 대체하며 구조는 종래와 같이 해서 패턴을 형성할 것으로 예상됩니다.
    Oxide/Metal/Oxide 의 구조에 대응하는 인덱스매칭 방법은 더 광학적인 연구가 필요할 것으로  생각합니다.

    친절한 답변 감사합니다!