2020-07-02
org.kosen.entty.User@218d2af1
곽계영(atomkwak)
- 3
현재 메탈 라인 pattern 제작을 하고자 합니다.
6" Si wafer 위에 메탈을 증착한 후,
연구용 저항 측정용 미세 패턴을 제작하고 하는데...
pattern의 metal width 가 2.5um 내외 pitch to pitch가 5um 정도 되는 반복 패턴을 구현하고자합니다.
이때 pattern 제작에 lithograph 공정을 적용하여, 미세 패턴 마스크 제작 후 etching을 통해 metal pattern을 남기는 방식을 취하고자 합니다.
Q1) 2.5~5um 급 메탈 라인 제작하는 추천할 만한 방식이 있는지요?
Q2) test 샘플 제작에 포토 리소 공정 가능한 기관이나 업체알 수 있을 지요?
정밀 제작이므로 마스크 제작 비용과 공정 비용은 당연히 지불하고 진행하고자 합니다.
감사합니다.
6" Si wafer 위에 메탈을 증착한 후,
연구용 저항 측정용 미세 패턴을 제작하고 하는데...
pattern의 metal width 가 2.5um 내외 pitch to pitch가 5um 정도 되는 반복 패턴을 구현하고자합니다.
이때 pattern 제작에 lithograph 공정을 적용하여, 미세 패턴 마스크 제작 후 etching을 통해 metal pattern을 남기는 방식을 취하고자 합니다.
Q1) 2.5~5um 급 메탈 라인 제작하는 추천할 만한 방식이 있는지요?
Q2) test 샘플 제작에 포토 리소 공정 가능한 기관이나 업체알 수 있을 지요?
정밀 제작이므로 마스크 제작 비용과 공정 비용은 당연히 지불하고 진행하고자 합니다.
감사합니다.
- 포토 리소그래피
- 미세 패턴
- 마이크로
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각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
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답변 3
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답변
이동진님의 답변
2020-07-03- 2
Q1) 일반적인 photolithography 공정으로 충분히 제작 가능합니다. 일반적으로는 웨이퍼 위에 photoresist를 spin-coating 한후, photolithography 공정으로 패턴을 형성하고, 메탈을 증착한 후, 남아있는 photoresist를 제거하여 메탈 패턴을 형성하는 공정을 지향합니다. 메탈 식각보다는 photoresist를 제거하는 편이 더 쉽고, 패턴도 잘 형성되거든요.
Q2) 나노종합기술원 (https://www.nnfc.re.kr/pageView/462), KIST 공정연구소(http://www.micro-nano.re.kr/) 등에서 공정가능합니다.
도움이 되었으면 합니다. -
답변
김병관님의 답변
2020-07-08- 2
1) 네, 일반적인 photolithography로 충분히 가능합니다. 50um 이상이면 그냥 metal mask로 금속 증기 증착 방법을 통해서 가능하지만 선 폭이 작아서 보통 photolithography 로 가능합나디.
2) https://www.kanc.re.kr/main.do
한국나노기술원도 있습니다. -
답변
최규석님의 답변
2020-07-09- 2
안녕하세요.
제우스(zeus.go.kr) 홈페이지의 장비상담에 글 남기시면 제우스 담당자가 해당
장비 담당자 또는 전문가에게 물어보고 답변을 해주고 있으니, 제우스를 이용해보세요^^