2006-11-17
org.kosen.entty.User@4a73f8e8
김기석(agidumbo)
나노임프린트 리소그라피는 100nm 이하의 선폭을 구현하는 새로운 기법으로 산업체 및 연구기관에서 많은 관심을 가지고 연구를 수행하고 있다. 본 연구실은 새로운 나노 임프린트 공정 개발 및 실제 디바이스 적용을 목표로 한다. 일차적으로 산업체에 바로 적용가능한 대면적용 임프린트 리지스트를 개발, 기존의 리소그라피를 대체하여 쉽고 작은 비용으로 패턴을 형성하는 것을 연구 중에 있다. 이를 위해서는 리지스트 합성 및 물질 특성 분석이 요구되어지고 있으며, 각각의 적용 분야에 따라 다른 물질 특성을 가지는 리지스트 개발이 요구되어진다. 또한, 임프린트 리지스트내에 기능성을 부여하여 패턴 형성과 동시에 기능을 수행하는 (전도성, 센싱, 발광) flexible 디바이스 구현을 수행한다. 현재 본 연구실은 17nm 이하의 선폭을 구현하는 기술을 보유하고 있으며, 이를 이용한 나노 사이즈의 디바이스 구현을 수행한다. 분자 메모리 소자, 포토닉 크리스탈 구조를 이용한 광소자, 바이오 소자 등에 적용이 가능하다.