2007-12-31
org.kosen.entty.User@5f9a73dd
최재명(probed)
플라즈마 응용 연구실은 크게 플라즈마의 물리 현상에 대한 기저 연구와 플라즈마를 산업적으로 활용하는 연구를 수행한다. 본 연구실은 CCP(Capacitively Coupled Plasma), ICP(Inductively Coupled Plasma), HP(Helicon Plasma), ECR(Electron Cyclotron Resonance Plasma), DBD(Dielectric Barrier Discharge)등의 플라즈마원을 이용한 기초 연구로 플라즈마 이해의 깊이를 높이는 동시에 플라즈마 인자가 반도체 소자제조 공정 및 카본 나노 튜브 (CNT)의 제조 공정에 미치는 영향에 대한 연구등 플라즈마의 활동 영역을 넓히고 있다.