한양대학교 반도체 재료 연구실 (Semiconductor Materials Laboratory)은 1992년 전형탁 교수님께서 설립하신 연구실입니다. 저희 연구실은 3차원 구조 등의 복잡한 구조에서도 정확한 두께 조절로 불순물 및 결함 없는 균일한 막의 성장이 가능한 원자층 증착법(Atomic layer deposition)을 이용하여 메모리 소자, 디스플레이, 태양전지 등에 이용되는 반도체 재료의 물성 연구 및 증착 공정 그리고 각 소자에서 발생되는 계면 분석 등의 연구를 기반으로 미래 핵심 소자의 개발 및 성능 향상을 목표로 연구하고 있습니다. 전형탁 교수님께서는 초기 ALD 기술인 Thermal ALD 부터 이를 개량한 Plasma ALD, Remote plasma ALD, DC-bias remote plasma ALD등 다양한 ALD 기술에 대한 기술력과 노하우를 바탕으로 차세대 ALD 기술에 대한 새로운 아이디어를 끊임없이 모색하며 열정적으로 연구실을 이끌고 계십니다. 현재 반도체 재료 연구실에서는 박사과정 4명, 석박사 통합 과정 4명, 석사 6명 총 14명의 학생들이 국내외 다양한 분야의 연구실과의 협동 연구 및 정기적인 학회 참석을 통해 자신의 능력을 펼치고 있습니다.
