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실험실명 : 미세공정 & 재료 실험실 |
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담당교수 : 이원규 교수님 |
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위치 : 공대 4호관 417호 |
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Tel : 033-250-6337, Fax : 033-259-5549 |
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Nano 재료 개발 및 응용성 연구 |
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반도체 공정을 응용한 Nano Fabrication 공정개발 |
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확산을 이용한 다성분계 신소재 개발 |
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Plasma 처리 공정에 의한 소재 표면 개질 |
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탄소계 소재 복합화 및 기능화 공정 |
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반도체 재료/공정 적용에 의한 기존장치 및 물질의 고부가화/고기능화 |
| 본 실험실은 현재 반도체 공정에 사용되는 박막 재료들과 표면 세정기술을 주로 연구하고 있습니다. 다성분계로 구성된 강유전체박막을 제조할 때 구성 성분으로 단성분계 산화막의 적층 구조로부터 상호확산 열처리를 통하여 조성 조절이 용이한 다성분계 박막을 제조하는 연구와 반도체 공정에서 필수 불가결하게 사용되는 금속 실리사이드의 형성 공정과 실리사이드의 열적특성향상에 대한 연구를 하고 있습니다. 반도체 공정뿐만 아니라 정밀산업에서도 필수적인 세정공정에 대한 연구를 하고 있습니다. |
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[SCI급]Atmospheric pressure plasma of C2F6/N2 for the decomposition of C2F6 in a dielectric barrier discharge, Journal of Industrial and Engineering Chemistry, 57(2018), 322~329 |
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[SCI급]Plasma reduction of graphene oxide in atmospheric presure glow discharge, Science of Advanced Materials, 9(2017), 1854~1858 |
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[SCI급]Implementation of alternative gas compositions and effects on discharge properties of atmospheric pressure plasma in decomposition of CHF3, Journal of Industrial and Engineering Chemistry, 52(2017), 7~11 |
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[SCI급]Analysis of Plasma Reaction for Decomposition of CHF3. in a Dielectric Barrier Discharge, CHEMICAL ENGINEERING COMMUNICATIONS, 204(2017), 529~537 |
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[SCI급]Effects of ambient gas on cold atmospheric plasma discharge in the decomposition of trifluoromethane, RSC ADVANCES, 6(2016), 26505~26513 |
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[SCI급]Analytical Approach to estimate and Predict the CO2 Reforming of CH4 in a Dielectric Barrier Discharge, CHEMICAL ENGINEERING COMMUNICATIONS, 203(2016), 917~923 |
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[SCI급]Effects of self-heating in a dielectric barrier discharge reactor on CHF3 decomposition, Chemical Engineering Journal, 294(2016), 58~64 |
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[SCI급]Process conditions for complete decomposition of CHF3 in a dielectric barrier discharge reactor, Korean Journal of Chemical Engineering, 33(2016), 844~850 |
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[SCI급]Analysis of helium addition for enhancement of reactivity between CH4 and CO2 in atmospheric pressure plasma, Journal of Industrial and Engineering Chemistry, 32(2015), 187~194 |
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[SCI급]Comparison of different applied voltage waveforms on CO2 reforming of CH4 in an atmospheric plasma system, Korean Journal of Chemical Engineering, 32(2015), 62~67 |
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카르복시산 가교화 전분을 이용한 비산방지용 천연도포제 및 이의 제조방법(10-1711786, 2017-02-23) |
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기체-액체 하이브리드 상압 플라즈마를 이용한 반도체 기판의 세정 방법(10-1647586, 2016-08-04) |
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상압 플라즈마를 이용한 핀홀 검출방법(10-1378291, 2014-03-19) |
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상압 플라즈마 장치(10-1337047, 2013-11-28) |
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국부소독 및 살균 가능한 핸드피스형 플라즈마 장치(10-1320291, 2013-10-14) |
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급속열처리 공정을 이용한 결정질 산화 주석 분말의 제조 방법(10-1154335, 2012-06-01) |
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살균 및 세정능을 갖춘 대기압 플라즈마 표면처리장치(10-1049971, 2011-07-11) |
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무기 실리카바인더로 고정된 광촉매층을 갖는 플라스틱 성형체 및 그의 제조방법(10-1142369, 2012-04-26) |
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다성분계 금속산화막의 형성방법(10-0936947, 2010-01-07) |
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광촉매 활성을 이용한 반도체 소자의 산화막 형성 방법(10-0643091, 2006-10-31) |