동향

High-k gate dielectrics: Current status and materials properties considerations

분야

재료

발행기관

G. D. Wilka, R. M. Wallace, and J. M. Anthony


첨부파일


반도체 소자의 초소형화 및 고집적화 기술에 필수적인 핵심 기술들 중의 하나인 고유전체에 대한 소개를 하고 있는 리뷰자료이다. 이 자료는 현재 사용되고 있는 저유전율 SiO2 관련 물질들에 대한 한계의 소개 및 그 대체 물질로 각광 받고 있는 후보 고유전체들에 대한 최첨단 연구 동향 및 이들의 장단점 등을 소개하고 있다. 또한 0.1마이크론 이하의 CMOS 기술 구현을 위해 필수적으로 고려되어야 할 사항들에 대하여 기술적인 면에 대하여서도 잘 정리되어 있다. 따라서 이 자료의 전문가 분석을 통해 차세대 CMOS 공정에 필수적인 고유전체에 대한 기본 및 응용에 이르기까지 좋은 정보를 얻을 수 있을 것으로 기대되며, 반도체 메모리 강국으로서 이분야 연구자들에게 큰 도움을 줄 것으로 예상된다.

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