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타원편광분광법을 이용한 박막재료 분석법 연구

타원편광분광분석법은 편광된 빛의 변화를 측정하는 편광광도계의 일종이다. 타원편광법(ellipsometry)은 편광 상태의 빛을 시료 표면에 조사하여 반사된 빛의 편광상태 변화를 측정하는 기법으로, 이것을 분광법(spectroscopy)과 결합하여 여러 파장에 대해 측정 할 경우, 시편에 대한 여러 가지 유용한 광학적 물성을 도출할 수 있다. 특히 타원편광분광분석법은 박막 형태의 시편 및 유전체와 반도체 재료에 대해 박막의 두께 및 굴절률을 도출할 수 있기 때문에 매우 유용하게 사용될 수 있다.