2005-07-19
org.kosen.entty.User@3b0ffbf6
김일태(itkimbrian)
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안녕하세요?
Glass에 gold를 50nm 정도의 두께로 직접 coating할 수있는 방법을 찾고 있습니다．보통 Ｃｒ이나 Ｔｉ를 Ｂｏｎｄ ｌａｙｅｒ로 쓰는 것으로 알고 있는데， 이러한 Bond layer없이 Ｄｉｒｅｃｔ로 ｇｏｌｄ를 ｇｌａｓｓ에 부착시킬 수 있는 좋은 방안이 없겠는지요 ？
- gold
- glass
- coating
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각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
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답변 2
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답변
오훈상님의 답변
2005-07-19- 0
>안녕하세요? >Glass에 gold를 50nm 정도의 두께로 직접 coating할 수있는 방법을 찾고 있습니다．보통 Ｃｒ이나 Ｔｉ를 Ｂｏｎｄ ｌａｙｅｒ로 쓰는 것으로 알고 있는데， 이러한 Bond layer없이 Ｄｉｒｅｃｔ로 ｇｏｌｄ를 ｇｌａｓｓ에 부착시킬 수 있는 좋은 방안이 없겠는지요 ？ 이미 swgo 님께서 답변을 해주셨습니다만 sputtering (DC, RF 모두 가능)뿐만 아니라 evaporation (thermal, e-beam) 법으로도 가능합니다. 일반적으로 gold, platinum, palladium 과 같은 귀금속 재료의 경우 glass 와의 접착력이 좋지 않기 때문에 Cr, Ti, Ta 과 같은 adhesion layer (bond layer) 를 사용하지 않고 바로 glass 에 수백 nm 정도의 두께로 증착하는 경우 막이 들고일어나는 현상이 발생합니다만 50nm 의 두께라면 adhesion layer 없이도 가능할 것으로 생각이 됩니다. sputtering 법을 사용할 경우 치밀한 박막을 얻기 위해서는 가급적 낮은 Ar pressure 에서 증착을 하는 것이 좋습니다. -
답변
고상운님의 답변
2005-07-19- 0
>안녕하세요? >Glass에 gold를 50nm 정도의 두께로 직접 coating할 수있는 방법을 찾고 있습니다．보통 Ｃｒ이나 Ｔｉ를 Ｂｏｎｄ ｌａｙｅｒ로 쓰는 것으로 알고 있는데， 이러한 Bond layer없이 Ｄｉｒｅｃｔ로 ｇｏｌｄ를 ｇｌａｓｓ에 부착시킬 수 있는 좋은 방안이 없겠는지요 ？ 플라즈마 sputtering 방법을 사용하면 해결될 수 있습니다. 그런데, 밀착력이 중요한 factor라면 bond layer층이 있어야겠고 밀착력이 중요하지 않다면 bond layer층이 필요없겠지요. 플라즈마 인라인 스퍼터링 장비가 있어야됩니다. RF SPUTTERING 방법을 사용해도 되는데, RF스퍼터링 방식이 비전도성 물질에서 전도성 물질까지 COATING할 수 있는 장점이 있는 반면 생산효율이 좋지 않습니다.