2005-07-20
org.kosen.entty.User@400d4b64
김태은(rodong)
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물질의 순도 측정하는 방법이나 기구, 장비 등을 알고 싶습니다.
측정하고자 하는 물질은 Ag, Cu 등인데,
정확하게 말하면 Sputtering을 위한 Target의 순도를 알고 싶은겁니다.
Target 제작업자 말로는 99.999%의 순도라는데
사용하다보니 이상한 이물질도 나오고 해서 측정이 꼭 필요할 것 같습니다.
측정 방법이나 기구가 없으니 그냥 믿고 쓰는 방법 밖에 없어
답답한 마음에 이렇게 질문 올립니다.
- purity
- uniformity
- metal
지식의 출발은 질문, 모든 지식의 완성은 답변!
각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
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답변 1
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답변
오훈상님의 답변
2005-07-20- 0
>물질의 순도 측정하는 방법이나 기구, 장비 등을 알고 싶습니다. >측정하고자 하는 물질은 Ag, Cu 등인데, >정확하게 말하면 Sputtering을 위한 Target의 순도를 알고 싶은겁니다. > >Target 제작업자 말로는 99.999%의 순도라는데 >사용하다보니 이상한 이물질도 나오고 해서 측정이 꼭 필요할 것 같습니다. >측정 방법이나 기구가 없으니 그냥 믿고 쓰는 방법 밖에 없어 >답답한 마음에 이렇게 질문 올립니다. > Sputtering target 의 경우 거의 모든 업체들이 제품을 보내기 전에 자체적으로 순도분석을 한 후 그 결과를 첨부하여 납품하는 것이 통례이고 믿을 수 있다고 생각합니다만 혹시 의문이 가신다면 직접 조성분석을 해보시는 것이 좋은데 일반적으로 가장 흔히 사용하는 방법은 EDS (Energy Dispersive Spectroscopy) 입니다만 보통 정확도가 % 수준이기 때문에 순도 5N 이상의 제품이 확실하다고 한다면 EDS 보다는 ICP (Inductively Coupled Plasma) 법을 이용하여 분석하시는 것이 더 나을 것 같습니다. 그런데 EDS 든 ICP 법이든 물질에 불순물로 들어있다고 의심되는 물질이 어떤 물질인지 알아야 제대로 분석을 할 수 있습니다. 그리고 이물질이 나온다고 하셨는데 그것이 sputtering target 자체에 불순물이 들어있기 때문인지 아니면 어떠한 이유에서인지는 모르지만 현재 인식하지 못하고 있는 어떤 공정상의 문제에 의해 sputtering chamber 내부에서 발생하여 박막에 포함된 것인지를 먼저 판단하시는 것이 좋을 것 같습니다. 따라서 조성분석을 하실때 sputtering target 과 그 target 으로 증착한 박막을 모두 분석해보시는 것이 정확한 원인을 찾을 수 있는 방법일 것 같습니다. 조성분석 장비는 학교나 국공립 연구소 중 재료를 다루는 곳이라면 대부분 가지고 있습니다. 적당한 기관이 생각나지 않으시고 계시는 곳이 서울이시라면 서울대 기초과학 공동기기원 (http://kiki.snu.ac.kr) 의 분석담당자와 상의를 해보시는 것은 어떨까 합니다. 참고가 되었으면 합니다.