2006-08-17
org.kosen.entty.User@3188046a
김양수(dlinka)
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반도체 제조시의 sputtering, 핵융합 발전등에서 사용하는 플라즈마는
자기장을 사용하여 차폐, 제어한다고 알고 있읍니다.
어떠한 원리로 플라즈마가 자기장에 의하여 차폐가 되는지요?
- plasma
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각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
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답변 3
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답변
정연학님의 답변
2006-08-17- 0
준중성적인 gas인 플라즈마는 그 요소들(하전입자와 중성입자)의 하전성 때문에 전기를 전도시키며 전기력으로 인하여 중성화 하려는 경향이 있으며 이로 인하여 진동을 야기시킨다. 또한 외부의 영향에 의한 플라즈마의 진동도 고려될 수 있으며, 이러한 모든 진동은 플라즈마파의 원인이 된다 주로 자기장을 이용하여 입자들을 제어하며 이 자기 차폐는 열핵융합로 연구에서 가장 많이쓰이는 방식이다. 전기적 중성상태 외에도 플라즈마가 보여주는 두르러진 특징은 이 전리기체의 집단행동이라는 것이다. 보통의 기체분자들은 외부조건에 의한 기체분자들 사이의 충돌에 의해서 그 운동이 무질서하게 전개된다. 반면에, 전리기체내의 각각의 이온화된 입자들은 전하를 띠기 때문에 고유의 전기장을 만들어낼 수 있어서, 이 전하입자들의 운동은 결국 전류를 발생시키고, 이로인해 자기장이 유도되며, 이러한 유도자기장은 다시 멀리 떨어져있는 전하입자들의 운동에 조차도 영향을 주게된다. 결과적으로 이들 전체의 운동은 전기적으로는 중성을 띠지만, 계의 범위안에서 전기적으로 어떤 집단적 양상를 보여주게 된다. 다시말해서, 전리기체의 이온화율이 높으면 높을수록, 입자들 사이의 물리적 충돌보다는 전자기력에 지배되는 기체상태가 되는 것이다. 반면에, 물리적 충돌은 주로 이온화되지 않은 다수의 중성기체분자와 전자나 이온들 사이에서 일어나게 된다. 전리기체내의 전하입자들은 Coulomb force를 통해 서로에게 원거리 영향을 미치면서, 자신과 극성이 다른 전하입자들을 불러모은다. 어느 순간 자신이 가진 공간적으로 미칠 수 있는 전기력이, 불러모아져 자신의 주위를 둘러싼 다른 전하들로 인해 차폐되게 되는데, 자신으로부터 그 차폐되는 지점까지의 전기적 포텐셜은 통상적으로 거리에 반비례하는 것이 아니라, 아주 급속하게 지수 감수하게 된다. >반도체 제조시의 sputtering, 핵융합 발전등에서 사용하는 플라즈마는 >자기장을 사용하여 차폐, 제어한다고 알고 있읍니다. >어떠한 원리로 플라즈마가 자기장에 의하여 차폐가 되는지요? -
답변
고상운님의 답변
2006-08-20- 0
>반도체 제조시의 sputtering, 핵융합 발전등에서 사용하는 플라즈마는 >자기장을 사용하여 차폐, 제어한다고 알고 있읍니다. >어떠한 원리로 플라즈마가 자기장에 의하여 차폐가 되는지요? 스퍼터링기 전문 제작자를 소개합니다. 상기 질문을 의뢰하시면 성심껏 답변해 주실 겁니다. 회사명: 팬시스템 대표자: 박 종호 핸폰: 019-9141-4429 -
답변
김진철님의 답변
2006-11-01- 0
>반도체 제조시의 sputtering, 핵융합 발전등에서 사용하는 플라즈마는 >자기장을 사용하여 차폐, 제어한다고 알고 있읍니다. >어떠한 원리로 플라즈마가 자기장에 의하여 차폐가 되는지요? 주로 CUSP 즉, 가둠 장치라 하여 자장을 이용하여 벽면에 전자가 충돌하여 생기는 것을 되돌려 놓아 안 쪽으로 프라즈마를 가두어 놓습니다. 이 분야에는 많은 석학들이 있습니다. 이 중에 한양대 물리, 전자 등의 싸이트를 들러보세요. 정진욱 교수에 들러보면 잘 되있을거구요. 포항대, 서울대, KAERI, 등도 있습니다.