2006-09-05
org.kosen.entty.User@2cc4f498
장재원(thinsmile)
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Thermal evaporation 방법으로 50 ~100 nm 두꼐의 Au film을 증착하였는데, film 표면이 고르지 않아서 (Roughness: ~ 10 nm) 다른 방법을 찾고 있습니다. 수 nm의 표면 편차를 갖게 50 ~ 100 nm Au film을 증착시키는 다른 방법이 있는지 알고 싶습니다. 제가 아는 다른 증착 방법은 sputterring 이지만, 이방법을 통해서 제가 원하는 표면 고르기를 갖게할 수 있는지 궁금합니다.
- Au fillm
- Sputter
- Evaporation
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답변 1
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답변
고상운님의 답변
2006-09-12- 0
>Thermal evaporation 방법으로 50 ~100 nm 두꼐의 Au film을 증착하였는데, film 표면이 고르지 않아서 (Roughness: ~ 10 nm) 다른 방법을 찾고 있습니다. 수 nm의 표면 편차를 갖게 50 ~ 100 nm Au film을 증착시키는 다른 방법이 있는지 알고 싶습니다. 제가 아는 다른 증착 방법은 sputterring 이지만, 이방법을 통해서 제가 원하는 표면 고르기를 갖게할 수 있는지 궁금합니다. 아시는 바와 같이 플라즈마 스퍼터링 방법으로 원하시는 두께를 편차없이 증착이 가능합니다.시도를 해 보심이 어떨런지요...