2006-09-15
org.kosen.entty.User@15759432
권남헌(changmun)
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박막공정에서 패턴 형성을 위해서 사용하고 있는 감광제,
Photoresistor의 구성물질이 무엇인지 궁금합니다.
듣기로는 여러가지의 PR이 있다고 들었습니다.
1. 각 구성 성분, 물질 형성 구조
2. 온도, 습도 등에 대한 특성
3. 여러 박막 공정에서 PR 사용에서의 주의점
4. 박막 공정 중의 PR에 의한 부산물은 어떤 것이 있는지
5. 박막 공정이 아닌 경우, 일반적으로 PR을 제거하는 방법은
무엇이 있는지 (예, 아세톤을 이용한 PR 제거 등)
이상에 대하여 궁금합니다.
이와 같은 내용에 대해 잘 알고 계시는 분 계시면 꼭 부탁드립니다.
감사합니다.
- Photoresistor
- PR
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각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
답변 1
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답변
고상운님의 답변
2006-09-18- 0
>박막공정에서 패턴 형성을 위해서 사용하고 있는 감광제, >Photoresistor의 구성물질이 무엇인지 궁금합니다. >듣기로는 여러가지의 PR이 있다고 들었습니다. > >1. 각 구성 성분, 물질 형성 구조 >2. 온도, 습도 등에 대한 특성 >3. 여러 박막 공정에서 PR 사용에서의 주의점 >4. 박막 공정 중의 PR에 의한 부산물은 어떤 것이 있는지 >5. 박막 공정이 아닌 경우, 일반적으로 PR을 제거하는 방법은 >무엇이 있는지 (예, 아세톤을 이용한 PR 제거 등) > >이상에 대하여 궁금합니다. > >이와 같은 내용에 대해 잘 알고 계시는 분 계시면 꼭 부탁드립니다. >감사합니다. 포토레지스트에 관한 자료가 만땅입니다.아래 참조하세요... http://blog.naver.com/freisc