2007-06-12
org.kosen.entty.User@78e5bb8c
양철규(sprtmWKd)
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HfAlO Thin Film은 High k 물질로 여러분야에 사용되고 있습니다.
그런데 그 분야 중 저희와 관련되어, Chemical Test를 하는데,
막의 특성 (Sputter에 의한)이 SC-1, Nanostrip, H2SO4 등에 Dipping
하여도 특성변화가 거의 없습니다.
따라서, HfAlO Thin-Film Sputter시 Fill Oxidation에 의해 이러한
결과가 나온건지에 대해 알고 싶습니다.
보통 O2를 많이 넣고 Full Oxidation 하면, 상기와 같은 Chemical에
보통 아무런 변화가 없습니다.
이와 관련된 자료나 Paper가 있으시면 올려주시면 감사하겟습니다.
- SC-1
- Nanostrip
- H2SO4
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각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
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답변 1
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답변
안길홍님의 답변
2007-06-14- 0
HfAlOx의 thin film에 관한 특성은 조금 생소하여,그간 reference로 보관한 자료중에서 1건의 자료가 발견되었기에 혹시 귀하에게 참고가 될지 몰라서 참고file로 올립니다. [제 경험으로는 내화학성 및 high-k로 인하여 Ta을 주로 사용하였습니다] 하여튼 참고하여 보시기 바랍니다.