2007-09-30
org.kosen.entty.User@495dbfa2
이상호(RGB3)
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Hf oxide (또는 Hf, Zr oxide)를 high k 물질로서 반도체에서 연구가 많이 되고 있는것으로 알고 있습니다. 이 물질의 건식 식각 방법에 대해 궁금한데, 혹시 자료를 가지고 계신 분 계시면 부탁드립니다.
특히, 이 물질의 식각에 필요한 chemistry, 반응물이 volatile한지, 그리고 volatile 하지 않으면 해결법 등이 주요 관심사 입니다.
- Hf oxide
- dry etching
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각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
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답변 3
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답변
안길홍님의 답변
2007-10-01- 0
file의 올리는 용량이 있어서 나누어서 올립니다. -
답변
안길홍님의 답변
2007-10-01- 0
Etching에 대하여서는 공정 및 이에 대한 know-how를 특허로 등록되어 있어서 제대로된 자료를 얻기가 어렵습니다. 더욱이 high-k type인 Hafnium 에 대하여서는 특허에서의 충돌이 예상되는 분야가 많습니다. 참고로 첨부자료 특허 US Patent No.6214725를 올립니다.(만일 tiff로 full dcmts를 보시고자 하면 미국특허청으로 접속하시면 됩니다.) 특허가 아닌 보편적인 자료를 참고용으로 올립니다. -
답변
안길홍님의 답변
2007-10-03- 0
Etching에 관련된 추가자료를 참고 file 및 US Patent No.6806095 및 dry etching의 US Patent신청 현황을 올립니다.