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지식나눔

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Raman 장비에 대해 문의드립니다.

2007-10-30 org.kosen.entty.User@5a663e8 구소영(royalvenus)
  • 3
NRS-3100장비를 사용하고 있습니다. 샘플은 Si 결정을 확인하는 것인데... 모니터링 화면에서 보면, spectrum과 sample을 측정하기 전에 관측할 수 있는 화면이 나옵니다. 문제는... 결정화를 확인하는 건데, 자꾸만 비정질이 보입니다. 측정 전에 문을 열어둔 상태에서 샘플을 위치하려고 본 순간, 스펙트럼을 보는 곳에서 500 에서 강한 픽이 뜨는것을 관찰했습니다. (노이즈도 없고, 다른 픽도 없이 500에서만 나옵니다) 결정질 인줄 알고 기뻐했는데.. ㅠㅠ 장비 문을 닫으니까 스팩트럼이 기존에 비정질을 찍었던 모습 그대로 나오는 것입니다. 왜 이러는 건지.. 도통 알 수가 없어 질문드립니다. 설명좀 해주세요 ㅠㅠ
  • raman
  • si
  • a-Si
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답변 3
  • 답변

    고재현님의 답변

    2007-10-31
    • 0
    “스펙트럼을 보는 곳에서 500 에서 강한 픽이 뜨“는 순간에 라만 장비에 산란된 광신호가 들어가고 있는 중이었는지요? entrance slit을 한 번 닫아보시기 바랍니다. 닫혀있는데도 신호가 보인다면 아마 PMT(photomultiplier tube)의 문제가 아닌가 싶고요... (혹시 CCD를 쓰신다면 특정 pixel의 문제가 아닐까 싶기도 합니다) 만약 광신호가 들어가면서 500 cm-1에서 피크가 확인된다면 사용하시는 레이저의 plasma line 위치를 확인해 보시는 것이 어떨지요? gas 레이저라면 gas별 plasma lines이 table화되어 있는데, 이것들은 filter를 대지 않으면 제거되지 않고 스펙트럼에 그대로 나타납니다. 도움이 좀 되었는지 모르겠습니다. >NRS-3100장비를 사용하고 있습니다. > >샘플은 Si 결정을 확인하는 것인데... > >모니터링 화면에서 보면, spectrum과 sample을 측정하기 전에 관측할 수 있는 화면이 나옵니다. > >문제는... 결정화를 확인하는 건데, 자꾸만 비정질이 보입니다. > >측정 전에 문을 열어둔 상태에서 샘플을 위치하려고 본 순간, > >스펙트럼을 보는 곳에서 500 에서 강한 픽이 뜨는것을 관찰했습니다. >(노이즈도 없고, 다른 픽도 없이 500에서만 나옵니다) >결정질 인줄 알고 기뻐했는데.. ㅠㅠ > >장비 문을 닫으니까 스팩트럼이 기존에 비정질을 찍었던 모습 그대로 나오는 것입니다. > >왜 이러는 건지.. 도통 알 수가 없어 질문드립니다. > >설명좀 해주세요 ㅠㅠ
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    “스펙트럼을 보는 곳에서 500 에서 강한 픽이 뜨“는 순간에 라만 장비에 산란된 광신호가 들어가고 있는 중이었는지요? entrance slit을 한 번 닫아보시기 바랍니다. 닫혀있는데도 신호가 보인다면 아마 PMT(photomultiplier tube)의 문제가 아닌가 싶고요... (혹시 CCD를 쓰신다면 특정 pixel의 문제가 아닐까 싶기도 합니다) 만약 광신호가 들어가면서 500 cm-1에서 피크가 확인된다면 사용하시는 레이저의 plasma line 위치를 확인해 보시는 것이 어떨지요? gas 레이저라면 gas별 plasma lines이 table화되어 있는데, 이것들은 filter를 대지 않으면 제거되지 않고 스펙트럼에 그대로 나타납니다. 도움이 좀 되었는지 모르겠습니다. >NRS-3100장비를 사용하고 있습니다. > >샘플은 Si 결정을 확인하는 것인데... > >모니터링 화면에서 보면, spectrum과 sample을 측정하기 전에 관측할 수 있는 화면이 나옵니다. > >문제는... 결정화를 확인하는 건데, 자꾸만 비정질이 보입니다. > >측정 전에 문을 열어둔 상태에서 샘플을 위치하려고 본 순간, > >스펙트럼을 보는 곳에서 500 에서 강한 픽이 뜨는것을 관찰했습니다. >(노이즈도 없고, 다른 픽도 없이 500에서만 나옵니다) >결정질 인줄 알고 기뻐했는데.. ㅠㅠ > >장비 문을 닫으니까 스팩트럼이 기존에 비정질을 찍었던 모습 그대로 나오는 것입니다. > >왜 이러는 건지.. 도통 알 수가 없어 질문드립니다. > >설명좀 해주세요 ㅠㅠ
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  • 답변

    진병문님의 답변

    2007-10-31
    • 0

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    >NRS-3100장비를 사용하고 있습니다. > >샘플은 Si 결정을 확인하는 것인데... > >모니터링 화면에서 보면, spectrum과 sample을 측정하기 전에 관측할 수 있는 화면이 나옵니다. > >문제는... 결정화를 확인하는 건데, 자꾸만 비정질이 보입니다. > >측정 전에 문을 열어둔 상태에서 샘플을 위치하려고 본 순간, > >스펙트럼을 보는 곳에서 500 에서 강한 픽이 뜨는것을 관찰했습니다. >(노이즈도 없고, 다른 픽도 없이 500에서만 나옵니다) >결정질 인줄 알고 기뻐했는데.. ㅠㅠ > >장비 문을 닫으니까 스팩트럼이 기존에 비정질을 찍었던 모습 그대로 나오는 것입니다. > >왜 이러는 건지.. 도통 알 수가 없어 질문드립니다. > >설명좀 해주세요 ㅠㅠ
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    >NRS-3100장비를 사용하고 있습니다. > >샘플은 Si 결정을 확인하는 것인데... > >모니터링 화면에서 보면, spectrum과 sample을 측정하기 전에 관측할 수 있는 화면이 나옵니다. > >문제는... 결정화를 확인하는 건데, 자꾸만 비정질이 보입니다. > >측정 전에 문을 열어둔 상태에서 샘플을 위치하려고 본 순간, > >스펙트럼을 보는 곳에서 500 에서 강한 픽이 뜨는것을 관찰했습니다. >(노이즈도 없고, 다른 픽도 없이 500에서만 나옵니다) >결정질 인줄 알고 기뻐했는데.. ㅠㅠ > >장비 문을 닫으니까 스팩트럼이 기존에 비정질을 찍었던 모습 그대로 나오는 것입니다. > >왜 이러는 건지.. 도통 알 수가 없어 질문드립니다. > >설명좀 해주세요 ㅠㅠ
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    손삼익님의 답변

    2007-10-31
    • 0
    poly silicon의 결정화 정도를 보는 방법에는 1. XRD 2. Raman 3. UV-Vis 등이 있습니다. 이 중 Raman이 가장 sensitive 합니다. 결정화 방법에 따라 다르지만 wafer에서 520에서 나타나는 peak이 결정화된 기판 에서는 기판의 strain 에 따라 +- 5~6 정도해서 516이나 524정도에서 결정화 peak이 나타나고 480 부근에서 비정질 peak이 나타납니다. 500에서 강하게 나타나는 것은 시료보다는 설비의 문제인 것 같습니다. 우선 XRD로 몇가지 조건의 시료를 분석 해 보시죠. glancing angle (대략 2도)로 시편들을 측정하고 (111) peak의 강도를 비교해 보시면 됩니다.
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    poly silicon의 결정화 정도를 보는 방법에는 1. XRD 2. Raman 3. UV-Vis 등이 있습니다. 이 중 Raman이 가장 sensitive 합니다. 결정화 방법에 따라 다르지만 wafer에서 520에서 나타나는 peak이 결정화된 기판 에서는 기판의 strain 에 따라 +- 5~6 정도해서 516이나 524정도에서 결정화 peak이 나타나고 480 부근에서 비정질 peak이 나타납니다. 500에서 강하게 나타나는 것은 시료보다는 설비의 문제인 것 같습니다. 우선 XRD로 몇가지 조건의 시료를 분석 해 보시죠. glancing angle (대략 2도)로 시편들을 측정하고 (111) peak의 강도를 비교해 보시면 됩니다.
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