2007-11-20
org.kosen.entty.User@7a0b55fa
전제훈(kalaful)
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제가 학부생 4학년입니다.sputtering법으로 tio2를 증착시킬려고 합니다
그런데 대부분 졸겔방법으로 하는것밖에 안나와있는것 같더라구요
그래서 이렇게 질문을 드립니다
ti를 타겟으로 하고 o2가스를 흘려주면 tio2가 될까요?
tio2를 스퍼터로 증착시킨 논문이나 자료가 있을까요??
답변 부탁드릴께요~^^
- tio2
- sputter
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각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
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답변 2
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답변
안길홍님의 답변
2007-11-20- 0
의도하는 대로 Ti금속을 target로 하여서 sputtering가능합니다(장비는 충분히 갖추고 계시겠지요). 이때 생성된 TiO2에 대하여 rutile type인지 anatase type인지 사후 검사를 하여 주시기 바랍니다. 약400~450C까지는 Anatase 결정이 많이 포함되어 있습니다. 만일 Rutile type을 원한다면 600C이상으로 올려주어야 합니다. 그리고 이때 gas는 Ar/O2혼합gas를 사용합니다. 참고자료를 올려드리겠으니 실험에 참조하시기를... -
답변
안길홍님의 답변
2007-11-21- 0
연구의 목적으로 CVD,PVD,Plasma등등 모두 좋으나,이러한 장비는 고가이며, 진공(압력을 낮추어야 하므로)으로 대면적을 처리하기에는 매우 어렵습니다. 대기업에서는 이러한 장비를 구입함에 어려움이 없으나,중소기업 (특히 반도체 쪽으로 관련이 없는 업체)으로써는 거의 불가능하며,대면적을 처리하여야 할 장치 및 설비에는 적용이 매우 어렵습니다. 이에 학부학생에게 (박막coating관련) 추천하는 한가지 system은 정전도장 방법에 대한 관련자료를 찾아보기 바랍니다. 이러한 장비업체로는 세계적인 Graco(미국),Binks(독일),DeVilBiss(독일) 등과 같은 업체들이 있습니다.(-20~-90KV등급이 있음) 이러한 장비는 특히 Sol-Gel법에 의하여 대면적 박막을 coating하는 system에 매우 적절합니다.(naver나 daum에서 정전도장으로 검색)