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un-doped ZnO의 XRD 측정 후 angle 이동에 대하여

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안녕하세요 RF magnetron sputter 로 가스비(Ar:0)=10:10 , 증착온도(RT~400)으로 제조된 un-doped zno의 XRD 피크의 각이 지나 치게 온도가 올라감에 따라 오른쪽으로 shift(33.81->34.47)되어 이것을 기존에 것과 비교하였을 때 지나치게 다른 경향이(shifting 됨을 말함) 보이기 때문에 혹시 이와관련해서 알고 계신 논문이나 경험이 있으신 분들께 도움을 요청합니다 요약하면 un-doped zno의 shift 이유를 알고 싶습니다. 참고로 논문에 찾아보면 1) 박막과 유리기판의 열팽창 계수의 차이로 인한 스트레스 2) 불완전하게 성장되어진 격자구조로인한 스트레스 발생 등을 이유로 달아 놓은 걸 봤기에 확실한건지 여부도 알고 싶습니다 꼭 도움좀 부탁드립니다
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  • xrd
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답변 1
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    안길홍님의 답변

    >안녕하세요 >>RF magnetron sputter 로 가스비(Ar:0)=10:10 , 증착온도(RT~400)으로 제조된 un-doped zno의 XRD 피크의 각이 지나>치게 온도가 올라감에 따라 오른쪽으로 shift(33.81->34.47)되어 이것을 기존에 것과 비교하였을 때 지나치게 다른 경향이(shifting 됨을 말함) 보이기 때문에 혹시 이와관련해서 알고 계신 논문이나 경험이 있으신 분들께 도움을 요청합니다>>요약하면 un-doped zno의 shift 이유를 알고 싶습니다.>>참고로 논문에 찾아보면 >>1) 박막과 유리기판의 열팽창 계수의 차이로 인한 스트레스 >>2) 불완전하게 성장되어진 격자구조로인한 스트레스 발생>>>등을 이유로 달아 놓은 걸 봤기에 확실한건지 여부도 알고 싶습니다>>꼭 도움좀 부탁드립니다 첨부자료
    >안녕하세요 >>RF magnetron sputter 로 가스비(Ar:0)=10:10 , 증착온도(RT~400)으로 제조된 un-doped zno의 XRD 피크의 각이 지나>치게 온도가 올라감에 따라 오른쪽으로 shift(33.81->34.47)되어 이것을 기존에 것과 비교하였을 때 지나치게 다른 경향이(shifting 됨을 말함) 보이기 때문에 혹시 이와관련해서 알고 계신 논문이나 경험이 있으신 분들께 도움을 요청합니다>>요약하면 un-doped zno의 shift 이유를 알고 싶습니다.>>참고로 논문에 찾아보면 >>1) 박막과 유리기판의 열팽창 계수의 차이로 인한 스트레스 >>2) 불완전하게 성장되어진 격자구조로인한 스트레스 발생>>>등을 이유로 달아 놓은 걸 봤기에 확실한건지 여부도 알고 싶습니다>>꼭 도움좀 부탁드립니다 첨부자료
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