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답변 1
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답변
안길홍님의 답변
2008-05-01- 0
질문하신 내용에 해당하는 것은 금속 표면위에 Sol-Gel 방법에 의하여 만들어진 용액(예를 들어,si alkoxide를 가수분해한 용액,Ti 의 용액, Sn의 용액)을 금속표면위에 박막으로 먼저 coating한 후에 이에 전자 가속기에 의하여 가속된 전자를 (electron beam: 최소 1MeV이상, ~5*10^13ions/cm^2*min이상) 쏘게 되면 산화물이 금속 표면내로 약5nm 이내의 깊이로 침투하게 됩니다.이로 인하여 금속표면은 ceramic화 되어 지는 결과가 됩니다.즉, 금속의 표면 ceramic화라고 합니다.전자가속의 원리는 3극 진공관을 생각하시면 됩니다. 즉,전극의 배열을 -/+/+와 같이 두면(중간의 +전극은 격자전극 형태로 함) (-)에서 출발한 전자는 (+)전류가 흐르는(반드시 전류가 흘러야 합니다) 격자 전극을 통과하면서 가속되어 (+)전극으로 들어가게 되는 것입니다. 따라서 표면을 ceramic화 하고자 하는 금속이 도체이므로 이를 최종(+)전극이 되도록 하는 것입니다.(EFE:electron field emission라고도 합니다) 그러나 이러한 장비가 국내에 있는지는 모르겠습니다. 또 한가지는 통상적으로 사용하는 방법으로 금속이온을 금속표면에 침투 확장시켜 고온에 의하여 표면을 산화물화 하는 방법이 있습니다. 이러한 방법은 많이 사용하고 있습니다. 관련 자료는 첨부와 같습니다.(이외에도 여러 종류의 자료는 많이 있습니다)