2008-11-19
org.kosen.entty.User@24769be4
김민철(jjang2580x)
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Al2O3를 Cl2 를 이용하여 건식식각하려고 하는데
일반적으로 얼마의 파워에서 어느정도 개스 유량으로 하면 에칭 rate를 가지는지 알고 싶습니다.
혹시 실험해 보신분들이 계시면 정보 부탁드립니다.
감사합니다.
댓글을 주신 분께서
5G기준으로 ECCP Mode로 진행을 하였을때 7~8Kw의 Power로 진행하면 대략 3000ű10%정도가 etch되는것으로 알고 있습니다. 하지만, 단순히 Cl2 Gas만 가지고서는 무리가 있고, 여기게 BCl3등을 추가하여야만 가능한 결과 입니다.
라고 주셨는데 제가 이렇게 되면 개스 유량은 어찌되는지 몰라서요
- 에칭 rate
- Al2O3
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각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
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