2009-01-21
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최새봄(ssaebomy)
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Dry etching시 다른 Gas에 비해 SF6 Gas를 이용할 경우 장점은 무엇이 있나요??
- sf6
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답변 2
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답변
이상후님의 답변
2009-01-21- 0
>Dry etching시 다른 Gas에 비해 SF6 Gas를 이용할 경우 장점은 무엇이 있나요?? > SF6 based plasma들은 normal 상태에서 nontoxic하고 noncorrosive하며 다루기 쉽다는 장점이 있습니다. 실리콘 에칭시에 같은 특징을 보이는 CF4보다 더 선호적인 etchant로서 사용되고 있습니다. 또한 SF6가 CF4보다 실리콘 에칭 속도가 더 높으며, silicon dioxide에 비해 더 좋은 selectivity를 보인다고 보고되고 있음. -
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안길홍님의 답변
2010-01-30- 0
>Dry etching시 다른 Gas에 비해 SF6 Gas를 이용할 경우 장점은 무엇이 있나요?? > 불소는 반응성이 높은 불활성 가스이므로,etching시에 주로 사용합니다.