2010-02-03
org.kosen.entty.User@46be138a
박희우(phw10111)
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습식에칭은 주로 blanket film제거 (박막의 전면 제거)시에 사용된다.
라고 나오던데 blanket film이 무엇인지 알고 싶습니다.
- blanket film
- 에칭
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답변 2
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답변
이상후님의 답변
2010-02-03- 0
>습식에칭은 주로 blanket film제거 (박막의 전면 제거)시에 사용된다. > >라고 나오던데 blanket film이 무엇인지 알고 싶습니다. blanket film은 전도성 물질을 에칭된 dielectric으로 deposition하기 위한 패턴으로 에칭된 필름을 의미한다고 볼 수 있습니다. -
답변
안길홍님의 답변
2010-02-04- 0
반도체공정을 살펴보면 알 수 있습니다. 예를 들어 Si wafer가 나오면 그위에 산화층(oxide layer)을 형성시키고,그위에 pattern층인 device layer를 형성시킵니다.그다음 설정된 크기대로 소형으로 절단하여 반도체chip을 구성합니다. wet etching을 하게되면 용액에 담구어서하는 etching을 말하는데,여기에서 blanket가 의미하는 뜻은 large area라는 의미를 가지고 있습니다.그러면 위의 공정에서 어느 부위가 large area에 해당하는지 보면 oxide layer가 넓은 면적을 가진 부분입니다. 따라서 oxide layer를 etching하여 낼때를 blanket film을 wet etching한다라는 의미로 사용합니다.일반적으로 wet etching은 넓은 면적(blanket film)에 적용할 수 있으며(습식방법),미세 면적에는 plasma etching등(건식방법)의 방법을 사용합니다.