2010-02-03
org.kosen.entty.User@1dc2321d
박희우(phw10111)
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각각 등방성과 이방성이 방향에 따라 성질이
다르거나 같은경우를 말하는 걸로 알고 있는데
등방성 에칭 과 이방성 에칭이
정확히 무엇이고 어떤 식으로 하는 것인지 알고 싶습니다.
- 등방성 에칭
- 이방성 에칭
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각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
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답변 3
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답변
이상후님의 답변
2010-02-04- 0
>각각 등방성과 이방성이 방향에 따라 성질이 >다르거나 같은경우를 말하는 걸로 알고 있는데 >등방성 에칭 과 이방성 에칭이 >정확히 무엇이고 어떤 식으로 하는 것인지 알고 싶습니다. > 바로 전 질문에서도 비슷한 설명을 드렸는데, 식각(에칭, etching)은 크게 습식 식각과 건식 식각으로 나눌수 있는데 습식식각은 용액을 사용하는 방법이고 건식식각은 기체 상태의 가스를 사용해 식각하는 방법입니다. 습식 식각은 크게 모든 방향으로 동일하게 식각이 발생하는 등방성 식각과 특정 방향의 식각율이 다른 방향에 비해 현저히 떨어지는 식각 성질로 나타나는 이방성 식각으로 나눌 수 있습니다. 대표적인 등방성 식각 용액은 “HNA”라고 불리는 불산(HF), 질산(HNO3), 초산 (CH3COOH)의 혼합물을 사용합니다. 이방성 식각의 경우는 결정방향에 따른 서로 다른 식각률, 즉 (111)면 << (100)면, (110)면 성질을 이용하여 이방성 식각을 통해 여러 형태의 단면을 얻을 수가 있습니다. 좀 더 자세한 내용은 첨부 파일을 참고바랍니다. -
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최성호님의 답변
2010-02-04- 0
말씀하신 대로 에칭의 방향성이 있는가 없는가를 기준으로 판단합니다. 특정방향에 치우치지 않고 모든 방향으로 고른 에칭이 된다면 등방성 에칭, 특정방향으로만 에칭이 된다면 이방성 에칭이라고 합니다. 등방성 에칭은 대부분 액체상태의 케미컬에 의해 많이 발생하는데요. 케미컬에 의한 에칭이 빨라서 전체 방향으로 고른 에칭 속도를 보이는 경우입니다. 하지만 케미컬이라 하더라도 태양전지의 표면 텍스쳐링에 이용하는 경우는 결정면의 밀도에 따른 에칭 속도 차이를 이용해 에칭을 한다면 일종의 이방성 에칭이 되는 것이죠. 또다른 이방성 에칭의 대표적인 예는 반도체 공정에서 주로 이용하는 Via등을 형성할때 이용됩니다. via는 수직한 방향으로 일종의 홀을 형성해야 하므로 측면 에칭은 최대한 억제시키고 수직방향으로만 에칭을 해야합니다. 개스에 의한 반응은 모든 방향으로 일정하니 Ar 이온 등으로 수직방향으로 물리적 에칭을 부가하여 방향성을 가지게 합니다. 결국, 정리하자면 조건이 같을때 같은 재료의 에칭속도는 모든 방향으로 일정하므로, 특정방향으로 에칭의 속도를 더 높이게 되면 그것이 이방성 에칭이 되는 것입니다. >각각 등방성과 이방성이 방향에 따라 성질이 >다르거나 같은경우를 말하는 걸로 알고 있는데 >등방성 에칭 과 이방성 에칭이 >정확히 무엇이고 어떤 식으로 하는 것인지 알고 싶습니다. > -
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안길홍님의 답변
2010-02-04- 0
반도체에서 등방성,이방성 식각은 만일 반도체를 둥근 형태로 식각하면 어느 방향에서 보더라도 동일 한 형태로 나오기 때문에 이를 등방성 식각이라 하며, 그러나 각이진 형태로 식각할 경우는 보는 방향에 따라 그 모양이 다르기 때문에 이를 이방성 식각이라고 합니다.