2010-03-25
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김지수(soo0201)
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안녕하세요.
SiO2를 wet etching 하려 합니다.
기존에는 만들어져있는 BHF 용액을 사용했습니다.
49%의 HF를 이용하여 BHF 용액을 만드려 합니다.
이 때 HF:DI water를 1:6 비율로 섞으면 될까요?
BHF 용액의 일반적인 etchrate을 알고 싶습니다.
또 NH4F을 이용한 BOE 용액도 있다고 알고 있습니다.
BOE 용액의 비율과 etchrate은 어떻게 되나요?
SiO2의 wet etch에 관하여 답변 부탁드립니다.
좋은하루되세요.
- wet
- sio2
- BOE
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각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
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답변 1
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답변
신원조님의 답변
2010-03-26- 0
댓글에 간략히 적어 보냈습니다. 국내 반도체 공정에는 거의 확립이 되어있는 기술입니다. >안녕하세요. > >SiO2를 wet etching 하려 합니다. >기존에는 만들어져있는 BHF 용액을 사용했습니다. > >49%의 HF를 이용하여 BHF 용액을 만드려 합니다. >이 때 HF:DI water를 1:6 비율로 섞으면 될까요? >BHF 용액의 일반적인 etchrate을 알고 싶습니다. > >또 NH4F을 이용한 BOE 용액도 있다고 알고 있습니다. >BOE 용액의 비율과 etchrate은 어떻게 되나요? > >SiO2의 wet etch에 관하여 답변 부탁드립니다. >좋은하루되세요.