지식나눔

ITO위에 SAM을 형성하고자 합니다.

4`-nitrobiphenyl-4-carboxylic acid 물질을 자기조립화 하기 위해 1mM THF솔루션을 만들어서 ITO기판을 24시간 동안 침지시켜 SAM을 형성하고 이 후에 IT0위에 남아있을 과량의 SAM분자들을 순수 THF로 제거한다고 나와있는데 이 때 처리를 어떻게 해줘야 하는지 알 수 없을까요. THF를 ITO위에 흐르게 한다거나 아니면 다시 THF용액에 담군다는 건지...
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  • 자기조립단분자막
  • ITO
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답변 1
  • 답변

    최규석님의 답변

    >4`-nitrobiphenyl-4-carboxylic acid 물질을 자기조립화 하기 위해 1mM THF솔루션을 만들어서 ITO기판을 24시간 동안 침지시켜 SAM을 형성하고 이 후에 IT0위에 남아있을 과량의 SAM분자들을 순수 THF로 제거한다고 나와있는데 이 때 처리를 어떻게 해줘야 하는지 알 수 없을까요. THF를 ITO위에 흐르게 한다거나 아니면 다시 THF용액에 담군다는 건지... 일반적으로 SAM 하는 것과 같이 THF용액에 담궈 두시면 됩니다. 논문 찾아보시면 어떤 물질을 SAM하는냐에 따라 얼마 시간동안 담궈 두는지도 약간씩 다릅니다.
    >4`-nitrobiphenyl-4-carboxylic acid 물질을 자기조립화 하기 위해 1mM THF솔루션을 만들어서 ITO기판을 24시간 동안 침지시켜 SAM을 형성하고 이 후에 IT0위에 남아있을 과량의 SAM분자들을 순수 THF로 제거한다고 나와있는데 이 때 처리를 어떻게 해줘야 하는지 알 수 없을까요. THF를 ITO위에 흐르게 한다거나 아니면 다시 THF용액에 담군다는 건지... 일반적으로 SAM 하는 것과 같이 THF용액에 담궈 두시면 됩니다. 논문 찾아보시면 어떤 물질을 SAM하는냐에 따라 얼마 시간동안 담궈 두는지도 약간씩 다릅니다.
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