KOSEN 한인과학기술자네트워크

닫기

더 많은 혜택을 위해
로그인 하세요.

지식나눔

지식나눔

삼불화질소(NF3)의 세정 메커니즘

2010-08-25 org.kosen.entty.User@14983cd8 김정곤(stsusu)
  • 1
삼불화질소가 반도체 공정에서 세정용 가스로 사용되는것으로 알고 있습니다. CVD 공정과 같은 증착공정후에 챔버내의 불순물제거나 웨이퍼표면의 불순물을 제거하는 것으로 알고있는데.. 이때 NF3 가 불순물을 세정하는 메커니즘을 알고 싶습니다. 어떤불순물들이 있으며 그러한 불순물을 NF3 가 어떤 반응을 통하여 제거하고 또 세정후의 가스는 어떻게 최종 폐기되는지 알고 싶습니다.
  • NF3
  • 삼불화질소
  • 세정
지식의 출발은 질문, 모든 지식의 완성은 답변! 
각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
답변하기
답변 1
  • 답변

    안길홍님의 답변

    2010-08-27
    • 2

    첨부파일

    NF3를 사용하는 공정으로 NF3 cleaning process 또는 NF3 etching process라고 합니다.(참고로 NF3는 지구 온난화물질에 해당하여 이의 대체 규정이 조만간 있을 것을 예상하고 있습니다) (1) NF3단독 plasma process : NF3---> N + 3F (2) NF3/Ar plasma process : NF3 + Ar---> F + NF2(+) + Ar (3) NF3/He plasma process : NF3 + He---> F + NF2(+) + He 과 같이 진행됩니다. 여기에서 발생된 F에 의하여 Si는 Si + 4F-----> SiF4 와 같은 반응을 가집니다. 단 위의 반응은 plasma와 같은 고온에서 일어나는 반응입니다. 이를 F에 의한 cleaning 또는 etching process라고 합니다. 첨부 자료를 참고바랍니다.
    답변수정
    NF3를 사용하는 공정으로 NF3 cleaning process 또는 NF3 etching process라고 합니다.(참고로 NF3는 지구 온난화물질에 해당하여 이의 대체 규정이 조만간 있을 것을 예상하고 있습니다) (1) NF3단독 plasma process : NF3---> N + 3F (2) NF3/Ar plasma process : NF3 + Ar---> F + NF2(+) + Ar (3) NF3/He plasma process : NF3 + He---> F + NF2(+) + He 과 같이 진행됩니다. 여기에서 발생된 F에 의하여 Si는 Si + 4F-----> SiF4 와 같은 반응을 가집니다. 단 위의 반응은 plasma와 같은 고온에서 일어나는 반응입니다. 이를 F에 의한 cleaning 또는 etching process라고 합니다. 첨부 자료를 참고바랍니다.
    김정곤(stsusu) 2010-08-30

    답변감사드립니다.

목록
목록