2011-05-24
org.kosen.entty.User@146c9a9b
임민철(kenbabo)
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금속박막을 만드는데요
그때 고분자가 물위에 올라가 있는 상태에서 금속박막을 형성하려하는데
supputer chamber안에 넣어서 공정을 진행할 수 있을까요??
실리콘웨이퍼 - 물 - 고분자
순으로 이뤄져 있습니다. 즉 물이 고분자에 포집되어 있는 형태인데 가능할까요??
그때 고분자가 물위에 올라가 있는 상태에서 금속박막을 형성하려하는데
supputer chamber안에 넣어서 공정을 진행할 수 있을까요??
실리콘웨이퍼 - 물 - 고분자
순으로 이뤄져 있습니다. 즉 물이 고분자에 포집되어 있는 형태인데 가능할까요??
- sputter
- metal deposition
- deposition
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답변 2
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답변
김도형님의 답변
2011-05-26- 2
금속박막을 만드는 가장 대표적인 방법이 스퍼터링인데 이를 위해서는 고진공을 만들어야 합니다. 이 때 물이 기화되어 날라가버립니다. 자칫하면 펌프가 고장날 수도 있습니다. >금속박막을 만드는데요 >그때 고분자가 물위에 올라가 있는 상태에서 금속박막을 형성하려하는데 >supputer chamber안에 넣어서 공정을 진행할 수 있을까요?? >실리콘웨이퍼 - 물 - 고분자 >순으로 이뤄져 있습니다. 즉 물이 고분자에 포집되어 있는 형태인데 가능할까요?? -
답변
이정환님의 답변
2011-06-02- 0
일단 진공을 잡는 과정중에, 고분자의 pore 사이로 물이 유출되리라 생각됩니다. 다른분이 말씀하셨듯이, 펌프에 문제를 일으킬 소지가 충분히 있습니다. 또한 챔버에 물 분자들이 오염되게 되는데, 추후의 공정 진행시에 진공도를 해치는 요인으로 작용될 수 있습니다. 한번 흡착된 물 분자들은 제거가 잘 안되므로, 챔버상에 물을 유입하지 않는것이 좋을것 같습니다. >금속박막을 만드는데요 >그때 고분자가 물위에 올라가 있는 상태에서 금속박막을 형성하려하는데 >supputer chamber안에 넣어서 공정을 진행할 수 있을까요?? >실리콘웨이퍼 - 물 - 고분자 >순으로 이뤄져 있습니다. 즉 물이 고분자에 포집되어 있는 형태인데 가능할까요??