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산화물 반도체 TFT를 연구하고 있는 석사과정입니다.
요즘 a-Si을 채널로 쓰는 TFT에 대해 공부하고 있는데요
책이나 문헌들을 보면 거의 대부분이 게이트 절연막으로 SiNx를 쓰더라고요.
제가 알기로는 PECVD로 a-Si 채널을 증착 후, 역시 동일한 PECVD 장비로 SiNx를 in-situ로 증착할 수 있기 때문에 SiNx를 쓴다고 봤습니다.
그런데 제가 알기로는 SiNx는 SiOx보다 불안정한 절연막이고 신뢰성도 좋지 않은 걸로 알고 있는데 왜 굳이 SiOx를 안쓰고 SiNx를 쓰는지 궁금합니다.
- 디스플레이
- TFT
- SiNx
각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
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답변
김형근님의 답변
2011-11-18- 0
첨부파일
- 1). The_influence_of_SiOx_and_SiNx_passivation_on_the_negative_bias_stability_of_Hf-In-Zn-O_thin_film_transistors_under_illumination.pdf (0 KB)
- 2). Review_of_recent_developments_in_amorphous_oxide_semiconductor_thin-film_transistor_devices.pdf (0 KB)
- 3). Light-induced_instability_of_an_InGaZnO_thin_film_transistor_with_and_without_SiOx_passivation_layer_formed_by_plasma-enhanced-chemical-vapor-deposition.pdf (0 KB)
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1). The_influence_of_SiOx_and_SiNx_passivation_on_the_negative_bias_stability_of_Hf-In-Zn-O_thin_film_transistors_under_illumination.pdf
(0 KB)
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2). Review_of_recent_developments_in_amorphous_oxide_semiconductor_thin-film_transistor_devices.pdf
(0 KB)
- 3). Light-induced_instability_of_an_InGaZnO_thin_film_transistor_with_and_without_SiOx_passivation_layer_formed_by_plasma-enhanced-chemical-vapor-deposition.pdf (0 KB)
전자재료쪽이라 깊이있는 배움은 없지만, 그래도 예전에 배움을 토대로 자료를 찾아 드리는게 더 좋을것 같아 올려 드립니다.
첫번째 참고 논문은 oxide TFT에 대해 SiOx 와 SiNx의 passive film을 비교한 논문으로 SiNx가 더 많이 쓰이는 이유에 대한 질문에 해답이 있으며,
두번째 논문은 SiOx의 유무에 대한 특성을 비교했으며,
세번째 논문은 최근에 발표된 아주 따끈 따끈한 TFT 리뷰논문입니다.
그리고 링크는 TFT panel PECVD system 생산 업체 웹페이지입니다. 읽어 보시면,SiOx도 이용한다고 되어 있습니다. 아마 이 업체에 이메일을 보내면 더 자세한 내용을 얻을 수있지 않을까 싶네요..(보통 업체들이 답변을 안해주는 경우가 대부분이지만, 한번 시도는 해 볼 만 합니다)
http://appliedmaterials.com/technologies/library/akt-pecvd-system-si-tft-lcd
첨부 안열리면 알려주세요
감사합니다.
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산화물 반도체 TFT를 연구하고 있는 석사과정입니다.
요즘 a-Si을 채널로 쓰는 TFT에 대해 공부하고 있는데요
책이나 문헌들을 보면 거의 대부분이 게이트 절연막으로 SiNx를 쓰더라고요.
제가 알기로는 PECVD로 a-Si 채널을 증착 후, 역시 동일한 PECVD 장비로 SiNx를 in-situ로 증착할 수 있기 때문에 SiNx를 쓴다고 봤습니다.
그런데 제가 알기로는 SiNx는 SiOx보다 불안정한 절연막이고 신뢰성도 좋지 않은 걸로 알고 있는데 왜 굳이 SiOx를 안쓰고 SiNx를 쓰는지 궁금합니다.