2013-03-11
org.kosen.entty.User@3ba7b149
박서준(freshborn)
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첨부파일
제가 스퍼터링하여 성장시킨 AZO 박막의 XRD와 보통 AZO를 성막하는 분들의 XRD data입니다.
다른분들은 강한 002피크를 보이며 아주 약한 103피크를 보입니다.
다른 데이터로는 강한 002피크와 아주 약한 102피크..
혹은 002피크만 나타나는 분들도 있습니다..
하지만 저의 데이터를 보시면... 002..102..103..201까지 .... 다른분들과는 다르게 박막이 성장됩니다.
원인을 찾고 싶습니다! 요며칠 AZO박막이 대기중에 노출되자마자 킬로옴 단위로 변해버리는 것 때문에 골머리를 앓고 있는데.. 박막 성장이 다르게 되어 그런것이 아닌가 하여..
꼭 알고 싶습니다!
같은 RF sputtering으로 만든 박막이지만 다르게 성장하는 이유가 무엇일까요?
- 박막
- AZO
- ZnO
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각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
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답변 1
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답변
박장식님의 답변
2013-03-18- 0
안녕하세요. AZO는 ZnO 박막에 Al 를 박막을 도핑으로 주입한 TCO 로서, XRD 피크는 일반적으로 재료, 온도, 공정조건 등에 의존하는 것으로 알려져 있습니다. 1. 본 실험에서 실시한 것이 다른 실험조건이 어떻게 다른지요 ? - Al 도핑 농도, 온도, 압력, 파워밀도 2. AZO는 산화물로서 박막의 표면저항은 높을 것으로 예상됩니다만, 최적인 조건에서는 TCO 로서 10-4 대의 비저항을 갖습니다. 산소의 최적치는 어느정도 입니까. ? 3. 박막의 AZO 이 형성되는 것은 타？의 AZO 가 스퍼터에 의해서 원자로서 스퍼터되어 기판에 핵성장함으로 형성되는 것으로 생각됩니다. 기판상에서 어느정도 완전한 산화물 박막 (ZnOx, Al2Oy) 박막이 형성되었는지 확인이 필요한 것으로 생각합니다.