2024-05-03
org.kosen.entty.User@69e17490
익명
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안녕하세요, 현재 학부 연구생으로 현재 TiO2 나노입자에 SiO2를 코팅하는 실험을 진행 중이며, 결과적으로 수십 nm 크기의 core-shell 구조의 나노입자를 합성하는 과정에 있습니다.
문헌을 검토하다 보니, 나노입자 합성 후 남은 불순물을 제거하기 위해 DI water나 에탄올로 수 회 세척하거나 원심분리 후 DI water 및 에탄올로 수 회 세척하는 방법이 자주 언급됩니다. (ex., 원심분리 튜브 내의 액체를 제거하고, 생성된 실리카 코팅된 TiO 2 나노입자를 에탄올로 세척(3회)하여 과량의 반응물을 제거한 후 진공 하에 상온에서 밤새 건조시켰다.) 처음에는 수 회 세척이라는 방법이 나노입자를 감압여과 후 DI water로 재분산시키는 것을 반복해서 시도하는 것인 줄 알았으나, 나노입자의 크기가 너무 작아 필터링이 효과적이지 못했습니다.이 경우, 여러 번의 세척이라는 표현은 원심분리를 여러 번 반복하여 수행하라는 의미인가요? 자세한 설명이나 경험을 공유해주시면 감사하겠습니다.
- 실리카
- 나노 입자
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각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
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답변 1
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답변
이시우님의 답변
2024-05-14- 1
입자가 어느정도 크기냐에 따라 다르겠지만 보통 100nm 이하되면 감압여과로는 필터링이 힘들어서
원심분리를 통해서 고액분리 시킵니다. rpm은 높을 수록 효과적이구요
원심분리로 고액분리되면 상등액은 분리시키고 남은 고체를 다시 DI water나 에탄올에 재분산시키고 다시 원심분리 반복하시면 됩니다.