지식나눔

반도체 공정 중 electrode plating 진행 간 장비 chemical 농도분석 장비에서의 bubble(기포) 제거 할 수 있는 방법에 있어서 고려해야할 사항

Chemical concentration 분석 진행 간 지속적으로 분석 장비 내 Chemical path hose 부 bubble 유입이 심합니다.

구성 계통으로 chemical → pump → syringe → 분석 cell 계통인데, 효과적으로 bubble을 차단 할 수 있는 방법이 어떠한 것이 있을까요?


물리적으로 syringe 자체에 충격을 줄 수 없어, 구조적인 변경 또는 syringe 를 기준으로 개선을 가져야 할 듯한데, 도움 구합니다.

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답변 1
  • 답변

    조윤환님의 답변

    약액의 특성 때문에 bubble이 유입되는 것 같습니다.

    원인은 약액 성분, DO(용존산소) 중 하나일 것으로 추정합니다.

    약액의 조성이나 특성정보가 없으니 추정할 수 밖에 없습니다.

    이런 경우 중간에 약액탱크와 펌프 중간쯤에 degassing unit을 쓰면 대부분 해결됩니다.

    degasser의 타입 등은 약액과 시스템의 특성에 맞춰 선정하시면 되겠습니다.

    약액의 특성 때문에 bubble이 유입되는 것 같습니다.

    원인은 약액 성분, DO(용존산소) 중 하나일 것으로 추정합니다.

    약액의 조성이나 특성정보가 없으니 추정할 수 밖에 없습니다.

    이런 경우 중간에 약액탱크와 펌프 중간쯤에 degassing unit을 쓰면 대부분 해결됩니다.

    degasser의 타입 등은 약액과 시스템의 특성에 맞춰 선정하시면 되겠습니다.

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