2008-03-14
org.kosen.entty.User@5f5c7116
박재경(espjk)
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gate oxide로 사용하는 hf silicate를 wet etching하는 실험을 하고 있습니다. etching한 gate oxide를 사용해서 만들 수 있는 간단한 구조의 소자나 application에 대해서 알려주세요.
참고 자료가 많으면 좋겠습니다.
주로 mems용으로 사용하는 것 같던데 mems논문들을 찾아보니 간단한 구조를 찾을 수가 없더군요.
- hf silicate(gate oxide)
- wet etching
- application
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각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
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답변 1
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답변
안길홍님의 답변
2008-03-14- 0
gate 전류 leakage를 줄일 수 있는 high-k 소자(Hf silicate 포함하여)로써 많은 연구가 진행되고 있습니다. gate에 통째로 사용하든지, 아니면 얇은 박막으로 하부 p-type반도체와 gate사이의 박막으로 사용하든지 학교에서 가능한 방향으로 진행하시기 바랍니다. 몇가지 자료를 올릴테니 검토하세요.(자료 하나가 잘 올라가지 않아서 Mail로 보냅니다-Intel사례)