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Sol-gel법으로 합성한 TiO2 & SiO2 thin film의 IR 분석을 하려고 합니다.
여러 참고 문헌을 보면,
Thin film 분석 시 IR 영역에서 Si wafer가 많이 이용된다고 하던데...
실제로 Si wafer로 background를 잡아보니...
NaCl glass와 비슷한 개형의 background 스펙트럼이 나오긴 하나 그 Intensity가 조금 약했습니다.
그 후 SiO2 sample을 Si wafer 위에 올려서 찍어봤더니..
peak가 나오긴 하는데 이게 잘 나온건지 판단이 서질 않습니다...
0-2400 cm-1 파장에서는 뭔가 개형을 보이긴 하는데..
2400-4000 cm-1 파장에서는 노이즈 처럼 찍혀서 나오네요...
혹시나 하고 아예 다른 Si wafer를 주문해 봤습니다...
Silicon Materials Inc. (made in Belarus)
Test grade, P-type, TTV <=10um, Resistivity <0.005 ohm*cm 사양의
저저항 제품을 구매했는데.. 이건 background 찍을때부터 위의 개형이 안 나오고 노이즈가 나오더라구요...
혹시 thin film의 IR 분석을 하는데 적합한 Si wafer (회사, 제품)를 알려주신다면 감사하겠습니다.
- IR
- Thin film
- Si wafer
각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
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답변
강광철님의 답변
2012-02-02- 0
참고문헌참고하세요. 분석부분은 회사에따라 다르지는 않을것 같은데요..-------------------------------------질문-------------------------------------
Sol-gel법으로 합성한 TiO2 & SiO2 thin film의 IR 분석을 하려고 합니다.
여러 참고 문헌을 보면,
Thin film 분석 시 IR 영역에서 Si wafer가 많이 이용된다고 하던데...
실제로 Si wafer로 background를 잡아보니...
NaCl glass와 비슷한 개형의 background 스펙트럼이 나오긴 하나 그 Intensity가 조금 약했습니다.
그 후 SiO2 sample을 Si wafer 위에 올려서 찍어봤더니..
peak가 나오긴 하는데 이게 잘 나온건지 판단이 서질 않습니다...
0-2400 cm-1 파장에서는 뭔가 개형을 보이긴 하는데..
2400-4000 cm-1 파장에서는 노이즈 처럼 찍혀서 나오네요...
혹시나 하고 아예 다른 Si wafer를 주문해 봤습니다...
Silicon Materials Inc. (made in Belarus)
Test grade, P-type, TTV <=10um, Resistivity <0.005 ohm*cm 사양의
저저항 제품을 구매했는데.. 이건 background 찍을때부터 위의 개형이 안 나오고 노이즈가 나오더라구요...
혹시 thin film의 IR 분석을 하는데 적합한 Si wafer (회사, 제품)를 알려주신다면 감사하겠습니다.