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Nanoimprint lithography

2008-12-16 org.kosen.entty.User@29921a5c 김희연(chungha1)

분야

기타 전기/전자

발행기관

Helmut Schift

발행일

March 2008

URL

http://link.aip.org/link/?JVTBD9/26/458/1

첨부파일

1990년대 중반 나노임프린팅(NIL)이 소개된이후로 수많은 연구가 진행되어왔음에도 불구하고, 아직 상용화를 위해서는 많은 문제점이 있는것이 사실이다. 복잡한 공정이 필요한 기존의 노광방식에 비해 고속의 나노패턴을 구현하기 위한 방법으로써 각광받고 있는 나노임프린팅은 전자선 노광이나, DUV 노광을 대체할수있는 기술로 아직도 인정받고 있다. 본 논문은 상용화를 위한 나노임프린팅 공정의 표준화와 관련된 문제와 당면한 연구이슈에 대하여 논의하였다. 기존 리뷰논문과 달리 나노임프린팅의 문제점 및 간과되고 있는 근본적 오류들을 다루어 객관적으로 나노임프린팅 기술의 현주소를 파악할수있는 자료이다.
김희연

김희연(chungha1)

나노종합기술원

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