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동향

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일본의 반도체 제조용 포토레지스트 시장 동향

2023-01-31 org.kosen.entty.User@7eaafb04 코센2021(kosen2021)

분야

정보/통신

발행기관

정보통신기획평가원

발행일

2022-11-24

URL

https://dream.kotra.or.kr/kotranews/cms/news/actionKotraBoardDetail.do?pageNo=3&pagePerCnt=10&SITE_NO=3&MENU_ID=170&CONTENTS_NO=1&bbsGbn=01&bbsSn=243%2C403%2C257%2C254&pNttSn=197812&recordCountPerPage=10&viewType=&pStartDt=&pEndDt=&sSearchVal=&pRegnCd=&pNatCd=&pKbcCd=&pIndustCd=&pHsCode=&pHsCodeNm=&pHsCdType=&sSearchVal=

첨부파일

포토레지스트(Photo Resist)는 반도체 및 디스플레이 생산에 필요한 필수 소재 중 하나로 대일 수입 의존도가 76.8%에 달한다(관세청 2022년 1~9월 통계 기준). 포토레지스트(Photo Resist)는 반도체 감광액(感光液)의 일종으로, 반도체 제조의 전공정인 노광(露光·Photo) 공정에 필요한 핵심 소재다. 노광공정은 빛을 이용해 반도체의 원판인 실리콘 웨이퍼에 전자 회로를 새기는 공정을 말한다. 포토레지스트는 빛에 반응해 화학적 변화를 일으키는 특성이 있어, 빛이 노출되는 부위에 따라 특정한 패턴을 만들어낼 수 있다. 실리콘 웨이퍼 위에 액체 상태의 포토레지스트를 골고루 바르고, 그 위에 회로를 새긴 포토마스크를 얹어 빛을 쐬면 화학적 변화가 나타나면서 웨이퍼 위에 회로가 그려지는 방식이다. 이 작업이 사진을 현상하는 것과 같이 웨이퍼를 인화지로 만들어준다. 고품질의 미세한 회로 패턴을 얻기 위해서는 포토레지스트(감광액) 막이 얇고 균일해야 하며 빛에 대한 감도가 높아야 한다. 포토레지스트는 노광 공정에 쓰이는 빛의 파장에 따라 불화크립톤(KrF), 불화아르곤(ArF), 극자외선용(EUV) PR 등으로 나뉜다.

코센2021

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한국과학기술정보연구원

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