2023-06-25
org.kosen.entty.User@337268e3
익명
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안녕하세요 HMDS가 도포된 표면을 개질하기 위해 UV를 이용하고 싶은데 몇가지 궁금한 점이 있어 질문드립니다.
1. HMDS가 반응하는, 주로 이루어지는 표면개질 파장대를 알고 싶습니다 (172nm에서 185nm라고 하던데 맞을까요?): 이와 관련된 자료가 있다면 알려주세요!
2. HMDS가 도포된 표면을 개질하기 위해 UV를 쐬려고 하는데 UV/O3 treatment를 이용해도 괜찮을까요?
3. UV/O3 treatment와 excimer lamp의 오존발생외에 차이점에 대해 알고 싶습니다.
- HMDS
- UV
- DUV
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각 분야 한인연구자와 현업 전문가분들의 답변을 기다립니다.
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답변 1
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답변
김주남님의 답변
2023-09-14- 0
1번
오존과 같이 사용할텐데, 자세한 조건은
Photochemical Reaction of Ozone and 1,1,1,3,3,3-Hexamethyldisilazane: Analysis of the Gas Reaction between Precursors in a Photochemical Vapor Deposition Process
위의 논문을 참고하세요.
2번. UV만으로는 처리 않됩니다. 그냥 UV만 쏘는 것 ㄷ같지만 공기중의 산소가 오존화되서 결국 UV/오존 분위기에서 처리되는 겁니다.
3번 excimer lamp는 안에 넣는 가스 원자에 의해 UV파장을 조절할 수 있다는 점 외에는 UV발생장치로 동일합니다.